China 532nm Kreesfërmeg Top-Hat Beam Shaping DOE | Φ60µm Flat-Top Spot fir gréng Laserherstellung a Fabréck

532nm Kreesfërmeg Top-Hat-Beam-Formung DOE | Φ60µm Flat-Top Spot fir gréng Laser Featured Image

532nm Kreesfërmeg Top-Hat Straleformung DOE | Φ60µm Flat-Top Spot fir gréng Laser

Straleformend DOEs gehéieren zu de meescht benotzten diffraktiven opteschen Elementer (DOE). Hir Funktioun ass et, flaach Stralen mat gläichméisseger Energieverdeelung, géie Kanten a benotzerdefinéierte Formen ze produzéieren.

Kategorie	Parameter	Spezifikatioun
Systemparameter	Designwellenlängt [nm]	532
	Strahlqualitéit (M²)	≤ 1,2
	Gréisst vun der Input-Strahl (e⁻²) [mm]	4.5
	Brennwäit vum Fokusmodul [mm]	100
DOE-Parameteren	DOE Kloer Blend [mm]	Φ12
	DOE Mechaneschen Äusseren Duerchmiesser [mm]	Φ25,4 × 2
	Bestellung	16
Ausgangsparameter	Geformte Balkenform	Kreesfërmeg
	Gréisst vun der geformter Balke [µm]	Φ60
	Geformte Strahluniformitéit (RMS)	> 90%
	Total Diffraktiounseffizienz (e⁻²)	> 90%

Schéckt eis eng E-Mail

Produktdetailer

Produkt Tags

Duerch Mikrostrukture gëtt d'Transmissiounsphas vum Liicht, dat duerch den diffraktiven opteschen Element (DOE) passéiert, geännert, wouduerch d'Phasenmodulatioun vum afalenden Liicht méiglech ass. Dëst bewierkt, datt d'Liicht a verschidden Diffraktiounsuerdnungen verdeelt gëtt. Duerch d'Konfiguratioun vun den Diffraktiounsuerdnungen an den Objetdistanzen trëtt eng Interferenz op enger bestëmmter Fläch (typescherweis am Onendlechen oder der Brennfläch vun enger Lëns) op, wat zu enger spezifescher Liichtintensitéitsverdeelung féiert.

Dëst héichperformant Diffraktivt Optescht Element (DOE) ass speziell fir 532nm gréng Laserapplikatiounen entwéckelt ginn. Et transforméiert effektiv Standard Gaussesch Laserstralen an e uniforme, Φ60 µm kreesfërmegen, flaache Punkt mat steile Kantenprofiler a minimale Hotspots.

Dëse Strahlformungsapparat, deen mat engem Phasenprofil mat 16 Niveauen entwéckelt gouf, erreecht eng aussergewéinlech Gesamtdiffraktiounseffizienz vun >90% an eng Energieuniformitéit (RMS) vun >90%. Dëst garantéiert konsequent, héichqualitativ Resultater fir kritesch Uwendungen ewéi Lasermikrobearbechtung, Dënnschichtveraarbechtung, Lasermarkéierung a Produktioun vu biomedizineschen Apparater.

Den DOE huet en Standard-Baussenduerchmiesser vun Φ25,4 mm (1 Zoll) mat enger fräier Apertur vun Φ12 mm an enger Déckt vun 2 mm, wat eng nahtlos Integratioun an déi meescht kommerziell optomechanesch Halterungen, Filterrieder a Lasersystemer erméiglecht.