532nm rechteckegt flaach-Top-Beam-Formend Diffraktiounsoptescht Element (DOE)
532nm rechteckegt flaach-Top-Beam-Formend Diffraktiounsoptescht Element (DOE)
D'Uewerflächenmikrostrukture vun engem diffraktiven opteschen Element änneren d'Transmissiounsphase vun der ageleeter Wellefront, wat dann eng Phasenmodulatioun um ageleete Liicht ausübt. Als Konsequenz gëtt de Stral a verschidde Diffraktiounsuerdnungen opgedeelt. Duerch d'Upassung vun der Gewiichtung vun dësen Uerdnungen an der Distanz zur Observatiounsfläch kann een konstruktiv Interferenz op enger gewielter Plaz produzéieren - normalerweis am Onendlechen oder an der Brennfläch vun enger Lëns - wouduerch dat erfuerderlecht Bestrahlungsmuster generéiert gëtt.
Dësen DOE ass speziell fir 532 nm gréng Lasersystemer gebaut, andeems en en Standard-Gauss-Input an e rechteckegt flaacht Profil mat enger Gréisst vun 380 µm × 150 µm ëmwandelt, mat schaarfen Kanteniwwergäng an enger gläichméisseger Intensitéitsverdeelung.
Seng 16-Level-Phasenstruktur liwwert eng total Diffraktiounseffizienz vu méi wéi 90% an eng Energieuniformitéit vu besser wéi 90% RMS, wouduerch Hotspots effektiv ënnerdréckt ginn an thermesch Schied a Präzisiounsveraarbechtungsapplikatioune miniméiert ginn.
Den Apparat ass an engem Gehäuse mat engem äusseren Duerchmiesser vun Φ25,4 mm (1 Zoll) an enger fräier Apertur vun Φ15 mm ënnerbruecht, wat eng einfach Integratioun an déi meescht optesch Halterungen a Filterradbaugruppen erliichtert.
PRODUKTKATEGORIEN
Wavelength konzentréiert sech zënter 20 Joer op d'Liwwerung vun héichpräzisen optesche Produkter.
