NIR Plan Apo 50X/0.67 – Infinity-korrigéiert metallurgescht Objektiv fir Duerch-Silizium-Bildgebung & Faserlaserprozess-Iwwerwaachung

Den NIR Plan Apo 50X/0.67 ass en Premium-Infinity-korrigéiert Plan-Apochromatescht Mikroskopobjektiv, dat speziell fir Nohinfrarout- (NIR) Uwendungen optimiséiert ass. Mat enger numerescher Apertur (NA) vun 0,67 an enger Aarbechtsdistanz (WD) vun 10 mm liwwert en aussergewéinlech Opléisung (0,5 µm) an exzellent NIR-Transmissioun iwwer de visuelle Beräich vun 380–700 nm souwéi déi kritesch Wellelängt vun 1064 nm – wat en ideal mécht fir d'Récksäitinspektioun vu Siliziumwaferen, d'Through-Silicon-Via (TSV)-Metrologie an d'Echtzäit-Iwwerwaachung vun der Glasfaserlaserveraarbechtung.

Schlëssel Spezifikatiounen:

• Vergréisserung: 50x
• Numeresch Apertur (NA): 0,67
• Aarbechtsdistanz (WD): 10 mm
• Brennwäit: 4 mm
• Opléisung: 0,5 µm
• Déift vum Schärft (±DF): 0,75 µm
• Maximal Siichtfeld: 0,5 mm
• Gewiicht: 430 g
• Opteschen Design: Onendlech korrigéiert, Planapochromat (APO)
• Aarbechtswellelängt: 380–700 nm & 1064 nm
• Tauchmedium: Loft