D'Inspektioun vun der Uewerflächenrauheet, der Stufhéicht an der Dënnschichtdicke op Hallefleiterwaferen, Präzisiounsoptiklënsen a beschichtete Komponenten bestëmmt direkt d'Produktiounsertrag. Traditionellt Kontaktprobe-Scannen kraazt liicht empfindlech Proben, während normal optesch Miessapparater keng Präzisioun op Nanoniveau liwwere kënnen. Wéi kann een gläichzäiteg net-destruktiv Tester, ultrahéich Nano-Genauegkeet an eng Masseproduktiounsinspektioun mat héijem Duerchgank erreechen?
Den neien industrielle Wäissliichtinterferometer vu Wavelength OE huet zwou Interferometrie-Miessmodi. Mat kontaktloser Detektioun deckt en de komplette Workflow vun der Fuerschung an Entwécklung am Laboratoire bis zur Qualitéitskontroll an der Online-Produktioun of.
Duebelkär-Interferometrie-Modi fir all Uewerflächentopographie
Am Géigesaz zu Single-Modus-Miessapparater integréiert dëst System VSI (Vertical Scanning Interferometry) an PSI (Phase-Shifting Interferometry) Algorithmen, a erfëllt doduerch zwou Kärmiessufuerderungen mat enger Maschinn.
| Vergläichsartikel | VSI / CSI | PSI |
|---|---|---|
| Haaptzouwendbar Uewerflächen | Rau Uewerflächen, Stufen, diskontinuéierlech & komplex Topographien | Ultraglat, kontinuéierlech a spigelfërmeg Uewerflächen |
| Vertikal Héichtmiessbereich | Breete Beräich; fäeg fir déif Nuten an héich Schrëtt ze moossen | Schmuel Beräich; net gëeegent fir isoléiert grouss Schrëtt |
| Vertikal Opléisung | Nanometerniveau; Subnanometer erreechbar mat optiméierten Algorithmen | Héchst Opléisung; Widderhuelbarkeet bis op e Subnanometer- a souguer e Sub-Ångström-Niveau |
| Toleranz géint Uewerflächenrauheet | Héich | Niddreg |
| Phasenambiguitéit | Bal keng; absolut Héichtewäertausgang verfügbar | Ënner Vorbehalt vun engem 2π-Phasenëmwéckelungsfehler |
| Geschwindegkeet moossen | Erfuerdert axial Scannen, relativ lues | Allgemeng méi séier |
| Vibratiounsbeständegkeet | Ufälleg fir Vibratiounen beim Scannen | Multi-Frame Phasenverschiebung, méi empfindlech op Schwéngungen |
| Typesch Uwendungen | Rauheet, Stufenhéicht, Mikrostrukturen, maschinell bearbechtete Flächen | Ultraglat Uewerflächenrauheet, Uewerflächenfigur a Flaachheetstester |
PSI (Phase-Shifting Interferometrie): Spezialiséiert op Nanoskala kleng Héichtefeatures an ultradënn Filmer, déi déi ultimativ mikroskopesch Opléisung liwweren.
Fliege Spigel
Gebogenen Spigel (konvexen Spigel)
Fotolithographescht Muster Beispill
VSI Vertikal Scanninterferometrie: Optimiséiert fir Werkstécker mat groussen Héichtenvariatiounen a groussen Schrëtt; komplette Miessberäich verfügbar ouni segmentéiert Scannen.
Kreesfërmeg Mikro-Bump-Array op fortgeschratt verpackte Waferen
Elliptesch Mikro-Bump-Array op fortgeschratt verpackte Waferen
Mikrolënsen-Array
Kombinéiert mat enger kuerzkohärenter wäisser Liichtquell vu 450–700 nm kann et effektiv Streiliicht vu multiple Reflexiounen ënnerdrécken a liwwert eng staark Anti-Interferenzleistung. Ausgestatt mat méischichtege Beschichtungen, kann dës optesch Komponent mat gerénger Reflexioun stabil an ënnerschiddlech Interferenzsignaler ausginn, wat authentesch a verlässlech Miessresultater ergëtt.
2. Industrieféierend Nanograd-Spezifikatiounen, noverfollegbar & stabil laangfristeg Donnéeën
-De System benotzt eng wäiss LED-Liichtquell mat enger zentraler Wellelängt vu 550 nm, déi mat Top-Kärleistungsparameter ausgestatt ass, déi de globale Premiumstandarden entspriechen.
-Vertikal Opléisung: <1 nm, Widderhuelungsmessfehler: <10 nm, richteg Nanometerpräzisioun
-Maximalen vertikale Miessberäich: 500 μm, keng widderholl Neipositionéierung néideg fir héich-niddreg Mikrostrukturen.
-Scangeschwindegkeet: 100 μm/s, eenzele komplette Scan bannent 10 Sekonnen ofgeschloss, Gläichgewiicht tëscht Präzisioun an Inspektiounsduerchschlag.
-Konform mat den NIST-Verfollegbarkeetsnormen, garantéiert den agebauten Autokalibrierungsalgorithmus konsequent verfollegbar Batchdaten a erfëllt streng QC-Standarden fir d'Hallefleeder- an d'Optikindustrie.
| Artikel | Parameter |
| Miessung vun der Kapazitéit | 3D-Uewerflächentopographie, Uewerflächenrauheet, Stufenhéicht & Filmdicke vu reflektive Materialien an optesche Komponenten |
| Datenerfassungsmodus | Vertikal Scanninterferometrie (VSI) + Phasenverschiebungsinterferometrie (PSI) |
| Kalibratiounssystem | NIST-verfollegbaren Standard + automateschen Kalibratiounsalgorithmus |
| Vertikal Miessbereich | 500 μm |
| Siichtfeld | 20× Objektiv: 0,87 × 0,65 mm |
| Kameraleistung | Maximal Opléisung: 2048×2448; Bildfrequenz: 74 Fps; Bitdéift: 12 Bit |
| Scangeschwindegkeet | 100 μm/s (Präzisiounsmodus) |
| Optiounen fir Objektivlënsen | Konfiguréierbar Objektiver mat 20x / 50x Vergréisserung |
| Installatiounsdesign | Agebaute Plattform fir aktiv Schwéngungsisolatioun, horizontal a vertikal Montage verfügbar |
| Gesamtdimensiounen (L×B×H) | 120 × 80 × 65 cm |
| Nettogewiicht | ≤58 kg |
3. Industriell integréiert Schrankdesign, kompatibel mat Laboratoire & Produktiounslinn
Optimiséiert souwuel fir Masseproduktiounsatelieren wéi och fir wëssenschaftlech Fuerschungslaboren mat flexibeler Installatiounskompatibilitéit.
Agebaute Plattform fir aktiv Schwéngungsisolatioun: Stabil Miessung ënner Fabrécksschwéngungen, keng zousätzlech Schwéngungsisolatiounstabel néideg.
Duebel Montagestruktur: Horizontal oder vertikal Opstellung, einfach Integratioun mat automatiséierte Produktiounslinnen a Laboraarbechtsstatiounen.
Kompakt All-in-One-Gehäuse: Kleng Gréisst mat Dimensiounen 120 × 80 × 65 cm, Gewiicht ≤58 kg, einfach Installatioun op der Plaz.
De komplette System integréiert Liichtquell, Interferometer-Haaptunitéit a Kontrollmodul. Plug-and-Play nom Auspacken, keng komplizéiert Upassung vum optesche Wee néideg.
Breet Uwendungsofdeckung fir héichpräzis Produktioun
Hallefleiterindustrie: 3D-Topographie & Stufenhéichtinspektioun vu Siliziumwaferen a Mikro-Nanochips.
Präzisiounsoptik: Rauheets- a Filmdicketest fir optesch Lënsen, Objektiver a beschichtete optesch Elementer.
Nei funktionell Beschichtungen: Uewerflächenprofil an Décktanalyse vu reflektive Beschichtungen a funktionelle Dënnschichten.
Wëssenschaftlech Fuerschungslaboratoiren: Charakteriséierung vun der Mikro-Nano-Struktur & Präzisiounstester vun der Morphologie vu Komponenten.
Mat Joeren u berufflecher Erfahrung an der optescher Fuerschung an Entwécklung entwéckelt Wavelength OE onofhängeg all Käroptikweeër a Miessalgorithmen fir Wäissliichtinterferometer. Voll technesch Kontroll vu Liichtquellen, Objektivlënsen bis Kalibratiounssystemer. All Eenheet gëtt virun der Liwwerung enger Präzisiounskalibratioun a verschiddene Ronnen duerchgefouert. Mir bidden e komplette techneschen After-Sales-Support a personaliséiere exklusiv Miessléisungen op Basis vun der Gréisst vum Werkstéck vum Client an den Ufuerderunge vun der automatescher Produktiounslinn.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 15. Juli 2026